dc.contributor.advisor | Schelp, Luiz Fernando | |
dc.creator | Souza, Paloma Boeck | |
dc.date.accessioned | 2017-01-05T11:15:29Z | |
dc.date.available | 2017-01-05T11:15:29Z | |
dc.date.issued | 2010-12-10 | |
dc.date.submitted | 2010 | |
dc.identifier.uri | http://repositorio.ufsm.br/handle/1/2476 | |
dc.description | Trabalho de conclusão de curso (graduação) - Universidade Federal de Santa Maria, Centro de Ciências Naturais e Exatas, Curso de Física, RS, 2010. | por |
dc.description.abstract | The application of small angles X-Ray diffraction to the determination of thin film morfology is presented. Technical instrumental aspects that are relevant to the extraction of the diffraction data in this range have been studied and are reviewed in the initial chapter. The basic tools to the low angle analysis, that include effects of x rays refraction at sample surface appears in the following chapter. These effects, that usually are not considered in the interpretation of high angles diffractograms, are taken into account in the software used to perform simulations of the experimental data from models. This simulation is exemplified for some thin films, where surface and interface roughness, interdiffusion and thickness have been sucessfully quantified. In contrast, VO 2 thin films diffractograms did not present any peak at low angle. This can be explained by the high roughness due to the specific kind of growth of these films, as revealed by atomic force microscopy images. | eng |
dc.language | por | por |
dc.publisher | Universidade Federal de Santa Maria | por |
dc.rights | Acesso Aberto | por |
dc.subject | Raios-X | por |
dc.subject | Simulação | por |
dc.subject | Difratograma | por |
dc.subject | Baixo ângulo | por |
dc.subject | X-ray | eng |
dc.subject | Simulation | eng |
dc.subject | Diffractogram | eng |
dc.subject | Low angle | eng |
dc.title | Caracterização estrutural, morfológica e estequiométrica de filmes finos de óxidos de vanádio | por |
dc.title.alternative | Structural, morfologic and stechiometric characterization of vanadium oxide films | por |
dc.type | Trabalho de Conclusão de Curso de Graduação | por |
dc.degree.local | Santa Maria, RS, Brasil | por |
dc.degree.graduation | Física | por |
dc.description.resumo | A aplicação da difração de raios x a baixos ângulos para a determinação da morfologia de filmes finos é apresentada. Aspectos técnicos fundamentais que são relevantes para a extração dos dados da difração nesta faixa têm sido estudados e são revisados no capítulo inicial. As ferramentas básicas para a análise a baixos ângulos, que incluem efeitos da refração de raios x na superfície da amostra aparecem no capítulo seguinte. Estes efeitos, que geralmente não são considerados na interpretação de difratogramas a altos ângulos, são levados em conta no software utilizado para realizar simulações dos dados experimentais a partir de modelos. Esta simulação é exemplificada para alguns filmes finos, onde rugosidade superficial e interfacial, interdifusão e espessura foram quantificadas com sucesso. Em contraste, difratogramas de filmes finos de VO 2 não apresentam qualquer pico na região de baixos ângulos. Isto pode ser explicado pela alta rugosidade devido ao tipo específico de crescimento destes filmes, como revelado por imagens de microscopia de força atômica. | por |
dc.publisher.unidade | Centro de Ciências Naturais e Exatas | por |