ADESÃO ÀCERÂMICA Y-TZP: ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE NANOFILMES À BASE DE SÍLICA NA SUPERFÍCIE DA Y-TZP
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Data
2013-08-15Autor
Druck, Carolina Ceolin 
Primeiro orientador
Valandro, Luiz Felipe
Primeiro membro da banca
May, Liliana Gressler
Segundo membro da banca
Dorneles, Lucio Strazzabosco
Metadata
Mostrar registro completoResumo
O presente trabalho avaliou, in vitro, a influência da deposição de filmes à base de sílica sobre a superfície da Y-TZP na durabilidade da resistência de união entre essa cerâmica e um cimento resinoso. Foram confeccionados oitenta blocos (5x5x4 mm) de Y-TZP, estes foram incluídos em resina acrílica e divididos em 4 grupos de acordo com o tratamento de superfície (n=20): (TBS) tratamento triboquímico (Cojet, 3M/ESPE); (F-5) filme de SiO2 de 5 nm e silanização; (F-500) filme de SiO2 de 500 nm e silanização; (F-500HF) filme de SiO2 de 500 nm + HF + silanização. Sobre os blocos de Y-TZP foram cimentados (RelyX ARC) cilindros feitos com resina composta confeccionados com uma matriz metálica. Metade dos espécimes (n=10) de cada grupo foi testada após 24h de cimentação (S- sem envelhecimento) e a outra metade (n=10) foi submetida ao envelhecimento (TC, armazenagem por 90 dias e 103 ciclos térmicos). Então, os espécimes foram submetidos ao teste de cisalhamento (1min/min). Após o teste, as superfícies foram analisadas por Microscópio Óptico e MEV para categorizar o modo de falha. Também foram feitas análises adicionais em EDS. Os dados foram analisados estatisticamente pelo teste de Kruskal-Wallis/Mann Whitney (α=0,05). A resistência adesiva foi influencida pelo tipo de tratamento de superfície, nas condições S (p=0.0001) e TC (p=0.0000). Em ambas condições de armazenagem, os tratamentos TBS e F-5 promoveram mais alta resistência adesiva, significativamente. Médias (DP) de RU (MPa) foram: TBS/S: 10,2(5,1)AB; F-5/S: 12,0(3,9)A; F-500/S: 14,9(4,7)A; F-500HF/S: 4,1(5,6)B; TBS/TC: 9,1(4,4)a; F-5/TC: 7,8(5,3)a; F-500/TC: 0,01(0,0)b; F-500HF/TC: 1,4(2,3)b. Concluiu-se que a adesão a zircônia pode ser potencializada se a superfície receber a deposição do filme de SiO2 de 5 nm ou for submetida a jateamento com partículas de sílica, seguida de silanização.