Propriedades extrínsecas em filmes finos de VO2
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Data
2010-08-31Autor
Callegari, Gustavo Luiz 
Primeiro orientador
Schelp, Luiz Fernando
Primeiro membro da banca
Vieira, Valdemar das Neves
Segundo membro da banca
Vasconcellos, Marcos Antonio Zen
Terceiro membro da banca
Silva, Celso Arami Marques da
Quarto membro da banca
Oliveira, Ana Augusta Mendonça de
Metadata
Mostrar registro completoResumo
Em trabalhos anteriores realizados no Laboratório de Magnetismo e Materiais
Magnéticos em Santa Maria, medidas de espectroscopia de impedância elétrica
entre 100 kHz e 1 GHz foram realizadas em função da temperatura em filmes finos
de VO2, ao longo da transição metal isolante sofrida por este material. Estes
resultados sugeriram [127] que a Espectroscopia de Impedância pode ser uma
ferramenta útil para separar as contribuições intrínsecas do material daquelas
geradas por características morfológicas.
Para que tal possibilidade pudesse ser realmente efetivada, foram
introduzidas melhorias técnicas no sistema de deposição por Magnetron Sputtering
do Laboratório de Magnetismo e Materiais Magnéticos como a adição de um
Analisador de Gás Residual e aperfeiçoamentos no sistema de aquecimento do
porta substrato.
Foram realizadas medidas de espectroscopia numa faixa mais ampla de
freqüências e os tempos de relaxação delas extraídos. Essas medidas foram
comparadas com as características estruturais das amostras obtidos por difração de
Raios X e Espectroscopia de Força Atômica.